A8486.3021
B8486.2029
C8486.2021
D8486.3029
制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置
化学气相沉积( )是将各种气体状的单体或化合物通入装有工件的高温真空炉中，使单体或化合物靠工件表面的热产生化学反应，在表面上沉积一层薄膜。( )
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