下列关于集成电路布图设计反向工程的说法,错误的是( )。
A通过技术手段对受保护的布图设计获取技术信息的,可以直接复制进行商业利用
B可以是通过技术手段对受保护的布图设计进行评价而获取有关技术信息
C仍需创作出具有独创性的布图设计
D受保护的布图设计需从公开渠道取得
A通过技术手段对受保护的布图设计获取技术信息的,可以直接复制进行商业利用
B可以是通过技术手段对受保护的布图设计进行评价而获取有关技术信息
C仍需创作出具有独创性的布图设计
D受保护的布图设计需从公开渠道取得