A不做处理
B腭杆组织面加自凝树脂重衬
C基托组织面缓冲
D取下腭杆,用自凝树脂修补缺口
E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是 ( )
一上颌游离端可摘局部义齿初戴时,发现一侧末端基牙颊侧卡环的体部形成支点,义齿无法就位。处理方法为( )
患者,女性,76岁,要求全口义齿修复。既往曾多次全口义齿修复,均不适。检查发现:下颌牙槽嵴极度低平,上颌牙弓窄于下颌牙弓,舌体增大,黏膜薄,下颌呈习惯性前伸。张口不受限。旧义齿固位差,关系不稳定 对
支架式可摘局部义齿前腭杆与黏膜的最合适关系是
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