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关于集成电路布图设计保护性质,下列表述正确的是(  )。

A集成电路布图设计权中的复制权和著作权中的复制权相同

B集成电路布图设计权具有物质性

C集成电路布图设计的创造性水平均比著作权的独创性和专利创造性水平低

D集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性