LEMP是以路和场两种形式耦合影响设备，屏蔽是减少电磁干扰（场形式）的基本措施，因为利用金属屏蔽体吸收、（）、反射可衰减加在设备上的电磁干扰和过电压能量。-易过题库-题库最全的搜题网站

LEMP是以路和场两种形式耦合影响设备，屏蔽是减少电磁干扰（场形式）的基本措施，因为利用金属屏蔽体吸收、（）、反射可衰减加在设备上的电磁干扰和过电压能量。

查看答案

相关试题

LEMP是以路和场两种形式耦合影响设备，屏蔽是减少电磁干扰（场形式）的基本措施，因为利用金属屏蔽体吸收、（）、反射可衰减加在设备上的电磁干扰和过电压能量。

填空题 >

首页

每日一练

打赏一下

浏览记录